由华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室主办，国家自然科学基金委员会工程与材料科学部、华中科技大学机械科学与工程学院、湖北省仪器仪表学会协办的第六届暑期研修班—“先进制造中的测量技术”将于2016年7月3日-7月6日在武汉举办，研修班面向全国青年学者、工程师和研究生。
当前制造领域正面临着深刻的变革，随着中国制造2025计划的制定和实施，我国正努力实现由制造业大国向制造业强国的转变。测量是人类认识世界的手段，是科学研究和制造技术的眼睛，也是保证产品制造满足可靠性、可重复性和经济性等多方面要求的关键。针对当前制造领域中的测量问题，先进制造系列研修班特邀请国内外测量领域知名专家，同国内学者一起探讨先进制造中的测量技术。数字制造装备与技术国家重点实验室已在武汉、无锡成功召开了五届规模不等的先进制造系列研修班，分别为先进制造中的数学、力学、视觉、纳米操作与控制、机器人技术，共邀请了20余位国内外知名专家，与会学者达400余人，取得了良好的效果。
本次研修班会议主席由华中科技大学丁汉院士担任，执行主席由华中科技大学刘世元教授担任。邀请蒋庄德教授（西安交通大学）、Kuang-Chao Fan教授（国立台湾大学）、Bernd Bodermann研究员（德国物理技术研究院）、Xiang Chen教授（加拿大温莎大学）、曾理江教授（清华大学）、邾继贵教授（天津大学）等国内外知名学者担任课程主讲教师。
报到：2016年7月2日全天，武汉，华中科技大学机械学院先进制造大楼（机械学院二楼大厅）
联系人：尹晗，邮箱：hanyin@hust.edu.cn，电话：027-87558045
注册：参加者请于2016年6月20日之前下载附件中的注册表格，填写后发送至联系人邮箱，逾期或超过报名上限（本届限定150人）将不予接纳。华中科技大学大数字制造与技术国家重点实验室将承担本次暑期班大部分费用，包括注册费、资料费和授课费，参加者只需要自己承担食宿与交通费用。
主讲教授介绍：
蒋庄德，西安交通大学教授，中国工程院院士，曾任西安交通大学副校长。长期从事微纳制造和精密测量与精密加工技术与装备等方面的研究，在耐高温压力传感器及系列MEMS器件、数字化精密测量技术与装备的工程科技领域做出了突出贡献。
Kuang-Chao Fan，国立台湾大学终身特聘教授，合肥工业大学长江学者特聘教授。曾任台湾大学工业工程研究所所长、台湾大学工学院副院长。长期从事微纳米精密测量、机床精度及精密机械方面的研究。
Bernd Bodermann，德国物理技术研究院(PTB)研究员，纳米光学测量所所长。面向工业应用和基础研究长期从事各种光学测量技术，包括定量显微术、非线性显微术、光学散射仪、椭偏仪以及多种严格电磁场建模求解技术等的研究。
Xiang Chen，加拿大温莎大学(University of Windsor)教授。长期从事智能制造传感器网络优化及其自动化应用、复杂系统鲁棒与最优控制等方面的研究。
曾理江，清华大学教授，国家杰出青年基金获得者。长期从事亚波长光栅的制备工艺、大尺寸光栅的曝光方法、及光栅在精密测量中的应用等方面的研究。
邾继贵，天津大学教授，国家杰出青年基金获得者，教育部长江学者特聘教授，教育部创新团队“先进制造现场测量理论与技术”学术带头人。长期从事基于激光技术、计算机视觉和精密测量理论的新型测量原理、方法及其工程应用方面的研究。
暑期班课程安排
（AM9:00 – 12:00，PM2:30 – 5:30）
时间 | 课程内容 | 主讲教授 |
7月3日 | 计量与测试—中国制造2025的基础 | 1. 计量与测试技术在中国制造2025的基础地位 2. 微纳传感器 3. 纳米测试技术 4. 精密测量技术与装备 | 蒋庄德 院士 |
Micro/nano Coordinate Measuring Machines for Nanometrology | 1. Fundamentals of Nanometrology · Definition of Nanometrology · Metrological Analysis: Resolution, Accuracy, Uncertainty · Scanning Probe Microscopes (SPM) · Optical Microscopes (OM) · Laser Interferometers · Grating Interferometers 2. Nanomeasuring Machines for 3D Nanometrology · State of the Art of Nanomeasuring Machines · The Development of NTU/HFUT Micro/nano-CMM | Dr. Kuang-Chao Fan |
7月4日 | Dimensional Metrology in Semiconductor Manufacturing and Nanotechnologies | 1. Fundamentals · SI units, traceability, dissemination of the units and reference standards · Metrology requirements in semiconductor manufacturing and nanotechnologies · Metrology methods and instrumentation: position, overlay and critical dimension 2. State of the art critical dimension (CD) metrology · Microscopic CD metrology methods: optical, SEM, SPM · Scatterometric (OCD) methods 3. Future requirements and possible metrology solutions · Metrology requirements and challenges in next generation lithography · Possible metrology solutions: X-ray scatterometry, Mueller polarimetry, hybrid metrology · Optical deep sub-wavelength metrology | Dr. Bernd Bodermann |
Deployment Optimization for Field Sensor Network | 1. Autonomous in ongoing Industry 4.0 2. A camera sensor network 3. Theoretical coverage modeling framework 4. The coverage distance function 5. Multi-camera deployment optimization | Dr. Xiang Chen |
7月5日 | 全息光栅制作过程中的精密测量技术 | 1. 大尺寸全息光栅制作过程中要考虑的参数 · 光栅波面的测量 · 光栅的槽形测量 · 光栅的杂散光测量 2. 光栅的波衍射面测量与控制 · 制作大尺寸全息光栅的曝光拼接技术 · 制作大尺寸全息光栅的扫描曝光技术 · 宽光束扫描曝光方法 3. 光栅的槽形测量与控制 · 光栅制作过程中的显影监测技术 · 光栅离子束刻蚀过程中的刻蚀监测技术。 · 光栅槽形的无损检测方法 | 曾理江 教授 |
7月6日 | 面向大型机械装备制造的精密测量技术及应用 | 1. 大型机械装备制造技术现状及发展趋势 2. 精密测量面临的新问题和挑战 3. 相关精密测量的新原理方法、技术及仪器设备 4. 具体的工程实现技术及解决方案 | 邾继贵 教授 |
附件下载：
第六届暑期班报名表
微信公众号
